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​半導體製程(二)

晶圓加工

讓台積電叱吒風雲的功夫

有一門神功讓奇蹟誕生於微毫,

有一門神功讓寶島屹立於風暴。

深夜,有人低吟那曲「神功成兮萬肝枯,TSM兮傲江湖。

沙場,有人高呼那句「十萬青年十萬肝,GG輪班救台灣。

這故事的主角是世界最大晶圓代工廠──台積電(英文縮寫為TSMC,暱稱叫GG),而他修練的神功名為晶圓加工

在IC製造中,需要最多資金、技術與人力投入的階段就是晶圓加工接續前篇「晶圓製造」,本蔥要說說「晶圓加工」的各項製程,並解釋新聞常提到的幾奈米(ex:7奈米)幾吋(ex:8吋)分別是指什麼。

​三字訣

 

晶圓加工的目的是把一堆電子元件(主要是電晶體)和電路做在晶圓上,過程就像蓋房子,會一層一層地堆疊。雖然整個加工步驟多達數百道,但其實主要就是幾種製程在重複進行,所以只要掌握三字訣,就能初步認識這門功夫。

單晶矽晶圓

​單晶矽晶圓

箭頭.png
箭頭.png
晶圓加工三字訣
晶圓

​電路密布的晶圓

三字訣

​鋪字訣

鋪字訣的目的是在晶圓上鋪上一層薄膜。依照不同用途,這層薄膜可以是二氧化矽、氮化矽、多晶矽等絕緣體,也可以是金屬。下面舉例幾個常用的製程。

熱氧化法

熱氧化法

​把晶圓放入烤爐,並通入氧氣,晶圓表面就會形成二氧化矽膜。這是晶圓加工的起手式。

化學氣相沉積法(CVD)

化學氣相沉積法(CVD)

讓幾種氣體發生化學反應,產生固體沉積物。此法可形成二氧化矽膜、氮化矽膜、多晶矽膜、金屬膜。

物理氣相沉積法PVD(濺鍍)

物理氣相沉積法(PVD)

 

此法有兩種,一種叫蒸鍍,一種叫濺鍍濺鍍時,會用一堆氬離子轟炸一塊靶材,靶材的原子就會被炸飛並濺射到晶圓上,形成一層薄膜。

​刻字訣

刻字訣的目的是把晶圓上的薄膜刻成某個圖案,由於這些圖案極端精細微小,所以當然不能用手刻,而是要用微影製程(或稱光刻製程),由於此一系列製程多半在黃色燈光下進行,所以又被稱作黃光製程。下面就列出此製程的主要步驟。

​光阻塗佈

光阻是會因為被光(紫外線)照到而發生化學變化的物質,可分為正光阻負光阻此步驟會把光阻塗在晶圓上。本蔥怕各位看官搞混,就只用正光阻作為講解範例。

​光阻會被滴在晶圓中央,然後晶圓會高速旋轉,利用離心力把光阻均勻分散到表面。

光阻塗佈

光阻眼中的光阻塗佈

光阻塗佈

​曝光

​此步驟會透過光罩透鏡讓部分光阻被光(紫外線)照射而發生化學變化。光罩上有設計好的圖案,光在通過光罩,就會只留下沒被圖案擋住的部分,緊接著又被透鏡聚縮到晶圓上的一小塊區域。照射完一個區域就會換下一個區域,這每個區域都是一個正在發育的IC寶寶。

​此示意圖上中下分別是光罩、透鏡、晶圓。

曝光

​從晶圓的一小塊來看曝光(此圖簡化光罩並省略透鏡)。可以見到只有一部份光阻被照到光,現在還看不出變化,但已埋下巧奪天工的伏筆。

曝光

​顯影

​用顯影劑浸泡或沖洗晶圓,在上個步驟被光照到的光阻會被顯影劑溶解,於是光罩上的圖案就以縮小版出現在晶圓上。這個圖案只是由光阻形成的,不是薄膜形成的圖案,所以還要進行下個步驟──蝕刻。

顯影

​蝕刻

此步驟會把晶圓泡到腐蝕液裡或用離子轟炸,光阻會保護自己正下方的薄膜不被攻擊,而沒有被光阻覆蓋的薄膜可就慘了,被腐蝕液或離子整到連渣都不剩。這樣一來,薄膜的圖案就會跟光阻的圖案一樣。

蝕刻

​光阻剝除

刻字訣的最後一步是剝除殘留的光阻,至此晶圓上的薄膜已被刻成我們想要的圖案囉。

光阻剝除

​摻字訣

純淨的矽不會導電,但摻入特定雜質的矽就能導電,這就是為什麼矽被稱為半導體。摻入雜質的半導體可以做出玄妙無比的電子元件──電晶體。若說IC是位魔力強大的法師,那電晶體就是這位法師的魔力來源,IC就是透過組合數百萬到數十億個電晶體而達成運算、記憶等功能的。

 

回到製程,摻字訣的目的是把雜質摻入晶圓的某個區塊中,改變該區塊的電氣屬性。下面就來說說此製程的兩個主要步驟。

​離子植入

此步驟會用電場加速特定離子,把它們做為雜質射入晶圓。可以用前面提到的曝光顯影技術做出只覆蓋某些區域的光阻,這樣就能讓離子摻入到指定區域。由於離子被射入晶圓後會集中在某個深度,而且還會破壞矽的結晶架構,所以還要進行下一步驟──退火。

離子植入

​退火

​只要加熱晶圓到某個溫度,晶圓裡的矽原子和雜質就會乖乖排隊。這個過程就叫退火。經過退火,原本擠成一團的雜質們會擴散開來,均勻分布在一個區塊內,讓那個區塊成為具有某種特性的導體。

退火──離子擴散

​堆疊而起的電路

 

只要反覆進行鋪、刻、摻字訣中的製程並配合拋光、清洗,就能一層接一層地堆疊出立體的電路結構,過程就像蓋房子一樣。

晶圓疊構.png

​這是晶圓的一小塊的剖面圖。

​幾吋?幾奈米?

 

​半導體產業分析文或新聞上常見到幾吋幾奈米,例如:

1. 台積電宣布赴美設廠,12 吋半導體供應鏈可能一併前往 (新聞連結)

2. Intel難產7奈米晶片,台積電會是救星嗎?  (文章連結)

所謂的幾吋其實是指晶圓的直徑,12吋晶圓廠的意思就是可以加工處理直徑為12英吋晶圓的工廠。常見的晶圓尺寸有6吋、8吋、12吋,一片晶圓越大,就能切分出越多IC,在良率一樣的情況下,每顆IC的成本就越低,

所謂的幾奈米​則是晶圓上的電路最細能做到多細,7奈米製程的意思是電路能做到只有7奈米寬。在微影製程(黃光製程)上的功夫直接影響此指標。電路能做到越細,就能在相同大小的晶片中放入更多電晶體,讓晶片的效能更強大,而且還更省電。值得一提的是,每家廠商對幾奈米製程的定義不完全一樣,大部分廠商為了宣傳效果,會把製程的奈米數喊低,所以才會聽到內行人說英特爾的10奈米製程跟台積電的7奈米製程其實技術水平差不多。

​晶圓怎麼變晶片?

IC製造商在晶圓上做出電路後,可以見到晶圓上有很多小方塊,每一個方塊都能做成一顆晶片(chip),為了把這些小方塊切分開來並包裝成晶片,就需要封裝與測試製程,這個階段一般就會交給日月光、艾克爾、南茂等封測廠。

晶圓
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