
半導體製程(二)
晶圓加工
讓台積電叱吒風雲的功夫
有一門神功讓奇蹟誕生於微毫,
有一門神功讓寶島屹立於風暴。
深夜,有人低吟那曲「神功成兮萬肝枯,TSM兮傲江湖。」
沙場,有人高呼那句「十萬青年十萬肝,GG輪班救台灣。」
這故事的主角是世界最大晶圓代工廠──台積電(英文縮寫為TSMC,暱稱叫GG),而他修練的神功名為晶圓加工。
在IC製造中,需要最多資金、技術與人力投入的階段就是晶圓加工。接續前篇「晶圓製造」,本蔥要說說「晶圓加工」的各項製程,並解釋新聞常提到的幾奈米(ex:7奈米)和幾吋(ex:8吋)分別是指什麼。
三字訣
晶圓加工的目的是把一堆電子元件(主要是電晶體)和電路做在晶圓上,過程就像蓋房子,會一層一層地堆疊。雖然整個加工步驟多達數百道,但其實主要就是幾種製程在重複進行,所以只要掌握三字訣,就能初步認識這門功夫。

單晶矽晶圓


電路密布的晶圓
三字訣
鋪字訣
鋪字訣的目的是在晶圓上鋪上一層薄膜。依照不同用途,這層薄膜可以是二氧化矽、氮化矽、多晶矽等絕緣體,也可以是金屬。下面舉例幾個常用的製程。

熱氧化法
把晶圓放入烤爐,並通入氧氣,晶圓表面就會形成二氧化矽膜。這是晶圓加工的起手式。

化學氣相沉積法(CVD)
讓幾種氣體發生化學反應,產生固體沉積物。此法可形成二氧化矽膜、氮化矽膜、多晶矽膜、金屬膜。

物理氣相沉積法(PVD)
此法有兩種,一種叫蒸鍍,一種叫濺鍍。濺鍍時,會用一堆氬離子轟炸一塊靶材,靶材的原子就會被炸飛並濺射到晶圓上,形成一層薄膜。
刻字訣
刻字訣的目的是把晶圓上的薄膜刻成某個圖案,由於這些圖案極端精細微小,所以當然不能用手刻,而是要用微影製程(或稱光刻製程),由於此一系列製程多半在黃色燈光下進行,所以又被稱作黃光製程。下面就列出此製程的主要步驟。
光阻塗佈
光阻是會因為被光(紫外線)照到而發生化學變化的物質,可分為正光阻和負光阻。此步驟會把光阻塗在晶圓上。本蔥怕各位看官搞混,就只用正光阻作為講解範例。
光阻會被滴在晶圓中央,然後晶圓會高速旋轉,利用離心力把光阻均勻分散到表面。

光阻眼中的光阻塗佈。



